Генераторы чистых газов
Генераторы чистых газов
Генераторы чистых газов позволяют получать такие газы, как водород, азот, кислород и нулевой воздух непрерывно "по требованию", устраняя необходимость работы с газовыми баллонами. Эти приборы не требуют серьезного обслуживания и способны существенно повысить производительность Вашей лаборатории.
Установки производства азота (N2), кислорода (O2) и водорода (H2) применяются в различных отраслях промышленности, в том числе многочисленных процессах производства изделий микроэлектроники и производства полупроводниковых материалов и приборов на их основе.
Области применения:
- Микроэлектроника и полупроводники (установки эпитаксиального роста, установки корпусирования, групповая термическая обработка пластин, лазерная резка и маркировка, плазменное травление и осаждение)
- Металлургия
- Машиностроение
- Химическая промышленность
- Пищевая промышленность
- Целлюлозно-бумажная промышленность
- Приборостроение
- Ракетная техника и воздухоплавание
- Научные исследования
Азот
Азот преимущественно используется в качестве защитной атмосферы и среды с низкой электро- и теплопроводностью в металлургии, машиностроении, химической и пищевой промышленности и при перекачке топлива. Хладагент в жидком состоянии. Также ОСЧ азот необходим для процессов эпитаксиального роста, групповой обработки пластин в диффузионных печах, в установках корпусирования, установках плазменного травления и осаждения и других процессов микроэлектроники и производства полупроводников.
Кислород
Пирометаллургия и газопламенная обработка металлов, получение искусственного топлива, масел, кислот и многих других химических продуктов. Окислитель в реактивных двигателях. Компонент дыхательных смесей в авиации, космонавтике, подводном флоте и медицине. Хладагент в жидком состоянии.
Водород
Получение особо чистых металлов и очистка поверхности металлов от окислов, органический синтез, топливо в ракетной технике, производства аммиака, кислот, метилового спирта, синтетического бензина, воздухоплавание. ОСЧ водород необходим для установок эпитаксиального роста и других процессах микроэлектроники и производства полупроводников.