Генераторы чистых газов

Генераторы чистых газов позволяют получать такие газы, как водород, азот, кислород и нулевой воздух непрерывно "по требованию", устраняя необходимость работы с газовыми баллонами. Эти приборы не требуют серьезного обслуживания и способны существенно повысить производительность Вашей лаборатории. 

Установки производства азота (N2), кислорода (O2) и водорода (H2) применяются в различных отраслях промышленности, в том числе многочисленных процессах производства изделий микроэлектроники и производства полупроводниковых материалов и приборов на их основе.

Области применения:

• Микроэлектроника и полупроводники (установки эпитаксиального роста, установки корпусирования, групповая термическая обработка пластин, лазерная резка и маркировка, плазменное травление и осаждение)
  
• Металлургия
• Машиностроение
• Химическая промышленность
• Пищевая промышленность
• Целлюлозно-бумажная промышленность
• Приборостроение
• Ракетная техника и воздухоплавание
• Научные исследования 

Азот

Азот преимущественно используется в качестве защитной атмосферы и среды с низкой электро- и теплопроводностью в металлургии, машиностроении, химической и пищевой промышленности и при перекачке топлива. Хладагент в жидком состоянии. Также ОСЧ азот необходим для процессов эпитаксиального роста, групповой обработки пластин в диффузионных печах, в установках корпусирования, установках плазменного травления и осаждения и других процессов микроэлектроники и производства полупроводников.

Кислород

Пирометаллургия и газопламенная обработка металлов, получение искусственного топлива, масел, кислот и многих других химических продуктов. Окислитель в реактивных двигателях. Компонент дыхательных смесей в авиации, космонавтике, подводном флоте и медицине. Хладагент в жидком состоянии.

Водород

Получение особо чистых металлов и очистка поверхности металлов от окислов, органический синтез, топливо в ракетной технике, производства аммиака, кислот, метилового спирта, синтетического бензина, воздухоплавание. ОСЧ водород необходим для установок эпитаксиального роста и других процессах микроэлектроники и производства полупроводников.